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光罩中的明暗场有什么区别？

从设计到制造的图形转移一般需要经过三步：1，IC设计者设计版图 2，将版图文件GDSII转化为掩膜版 3，用掩膜版将图形转移到光刻胶上。那么光罩又分为明暗场，它们有什么区别？

经常会看到“流片”和“晶圆”这两个词，很多人会误以为它们是同一个概念，其实两者的内涵和侧重点完全不同。简单来说流片是一个过程，晶圆是一种物理载体。下面我们来逐步拆解。